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電子顕微鏡室

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最新情報

2017/04/28 透過型電子顕微鏡の使用取扱説明会開催のお知らせ【終了しました】
平素よりベンチャービジネスラボラトリー(VBL)および共用機器センターの
活動にご協力頂きましてありがとうございます。

【VBL の透過型電子顕微鏡(TEM, Hitachi H-7650)】を利用するためには、
メーカーによる【有料の使用取扱説明会】への参加後、機器管理担当者が監督する
TEMライセンス試験に合格する必要があります。


今年度の【第1回使用取扱説明会】は下記の日程で行う予定です。
第2回目の開催日時は未定ですので、今年度中に上記機器の利用をご検討されている方は
必ずお申し込み下さい。


平成29年度共用機器センター 第1回TEM使用取扱説明会

日時:6月20日(火)・21日(水)・22日(木)・23日(金)のいずれか
日時:9:30〜17:00(途中、昼食休憩)   ※途中参加や退席はできません。    
日時:※開催日は参加人数に合わせて調整します。人数によっては、
日時:希望日に開催できない場合もありますので、ご了承下さい。
会場:ベンチャービジネスラボラトリー 3階 微細構造解析室(2) 
講師:日立ハイテクフィールディング 佐伯 善彦
内容:TEMの実機を使用した操作法・TEM像観察時の条件設定などの
     取扱説明を実習形式で行います。

参加要件:学内外の修士(博士前期)課程以上の学生またはそれに相当する者
参加費:30,000円/1人(学術利用の場合)(テキスト有)
参加費:※学術利用の場合は、各研究室から支出して頂きます。
参加費:※学外一般利用の場合は、別途費用等お問い合わせ下さい。
定 員:各日最大8名程度


申込方法:氏名、所属部局(研究室)、学年または役職、メールアドレス、
申込方法:学生の場合は指導教員の氏名と連絡先、および
申込方法:上記開催予定日程のうち【参加不可日】を明記の上、
申込方法:cai-network★chiba-u.jp(★を@に変えてください)までメールにてお申込み下さい。
申込方法:※申込確定後のキャンセルの場合でも、参加費を徴収します。

申込期限:5月25日(木)24:00受信分まで有効
2016/11/22 【イベント】平成28年度 透過型電子顕微鏡(TEM)講習会開催のお知らせ【終了しました】

平成28年度 共用機器センター 透過型電子顕微鏡(TEM)講習会
             〜TEMの基本と実際〜


 このたび、千葉大学共用機器センターでは、TEMの基本と実際について
皆様にご紹介するために、下記の初心者用講習会を企画致しました。

なお、本TEM講習会は大学院 理学研究科 基盤理学専攻 化学コースの授業科目
『先端構造解析学』 (担当教員:吉澤徳子・加納博文)を兼ねております。


日程・内容:12月14日(水) 13:00〜17:00   TEMの基本
      12月15日(木) 10:00〜17:00   TEMの実演(授業履修者のみ)
      12月16日(金) 13:00〜17:00   TEMの実際・応用
       ※15日は授業履修生のみの参加です。講習会参加者は14日・16日両日となります。
        2日間セットの内容なので、両日参加できるかご確認の上お申し込み下さい。

会  場:共用機器センター2F講義室(14日・16日、講習会参加者)
                                              1F透過型電顕室(15日、授業履修者のみ)
講  師: 産業技術総合研究所 吉澤 徳子 様

参加費 :無料(テキスト有り)
参加要件:TEMに興味がある学内の教職員・学生
定  員: 15名(先着順)

申込方法:氏名・所属学部・学年または役職・メールアドレスを明記の上、
        cai-network★chiba-u.jp (★を@に変えてください)までメールにてお申込み下さい。
        授業として履修登録をされている学生の方は連絡不要です

申込期限:12月7日(水)

問い合わせ先:Tel: 043-290-3810
            E-mail: cai-network★chiba-u.jp(★を@に変えてください)
詳しくはポスターをご覧ください。

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装置の紹介

日立ハイテク, H-7650

1)透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope, TEM)の概要
 薄く作製した試料に電子ビームを照射し、透過してきた電子による干渉像を拡大して試料の形状を観察します。1ナノ(1×10-9)メートルサイズからの観測が可能です。無機、有機、生体試料など、様々な試料の極微小領域観測に利用されています。
 H-7650は、2)のFE-TEMよりも取り扱いや試料の真空前処理が簡易な装置であり、特に有機物や生体試料の観察に適しています。なお、本装置は千葉大学ベンチャービジネスラボラトリー3階のX線微細構造解析室に設置されている共同利用装置です
装置名 装置の特徴
日立ハイテク, H-7650 熱電子銃、最大加速電圧 120 kV、分解能 0.36 nm(粒子像)、0.2 nm(格子像)

JEOL, JEM-2100F

2)電界放射型透過電子顕微鏡(Field Emission Transmission Electron Microscope, FE-TEM)の概要
 1)のTEMと同様に、試料に電子ビームを照射して透過してきた電子を検出することで試料の形状を観察します。様々な試料に対するオングストローム(1×10-10メートル)サイズ≒原子サイズまでの観測が可能です。
 JEM-2100Fは、電界放射型電子銃を備え、1)のTEMよりも高コントラスト・高分解能での観測が可能です。また電子回折(ED)・エネルギー分散型X線(EDS)・走査像(STEM)などの測定もできます。
装置名 装置の特徴
JEOL, JEM-2100F 電界放射型電子銃、最大加速電圧 200 kV、分解能 0.23 nm(粒子像)、0.1 nm(格子像)、EDSユニット、Cryoプローブによる凍結観測

JEOL, JSM-6510A

3)走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope, SEM)の概要
 試料に電子ビームを走査しながら照射した際に発生する二次電子や反射電子を検出することで試料表面を観察します。100ナノ(1×10-9)メートルサイズからの観測が可能です。拡大倍率はTEMに及びませんが、装置の操作が非常に簡易という利点があります。無機、有機、生体試料など、様々な試料の微小領域観測に利用されています。
 JSM-6510Aは、表面近傍の元素分析が可能なエネルギー分散型X線(EDS)測定が可能です。また、有機物や生体試料を凍結させて観察できるクライオステージや反射電子検出器も導入されています。
装置名 装置の特徴
JEOL, JSM-6510A 熱電子銃、最大加速電圧 30 kV、分解能 3.0 nm、反射電子検出器、EDSユニット、Cryoステージによる凍結観測

JEOL, JSM-6335F

4)電界放射型走査電子顕微鏡(Field Emission Scanning Electron Microscope, FE-SEM)の概要
 3)のSEMと同様に、試料に細い電子ビームを照射した際に発生する二次電子を検出することで試料表面を観察します。10ナノ(1×10-9)メートルサイズからの観測が可能です。装置の操作や試料の取り扱いは比較的簡易です。
 JSM-6335Fは、電界放射型電子銃を備えているため、3)のSEMよりも高コントラスト・高分解能での観測が可能です。なお、本装置は千葉大学ベンチャービジネスラボラトリー3階のX線微細構造解析室に設置されている共同利用装置です
装置名 装置の特徴
JEOL, JSM-6335F 電界放射型電子銃、最大加速電圧 30 kV、分解能 1.5 nm

Gatan, Model 691

5)精密イオンポリシング装置(Precision Ion Polishing System, PIPS)の概要【学内専用】
 TEMの試料を作製する装置で、アルゴンイオンビームを試料表面に照射してエッチングによる各種試料の薄膜化を行います。
 Model 691は、イオン電流密度の高い高性能小型ペニング形イオン銃を用いて低角度入射ビームでミリングすることにより、短時間でTEM観察可能領域の広い良質の材料が作製できます。
装置名 装置の特徴
Gatan, Model 691 最大電流密度 10 mA・cm-2、ビーム径 約 350 μm、ポリシング速度 84 μm・h-1 以上(条件:Cu, 10°, 5 keV)

Meiwafosis, SEDE-GE

6)ソフトプラズマエッチング(親水化処理)装置の概要
 TEMやSEMの観察用試料を水に分散した状態から調製する直前にグリッドや試料台等に対して使用する機器で、弱い酸素プラズマをそれらの表面に照射して酸素表面官能基を導入することにより、目的試料のマウントを容易にします。
 SEDE-GEは、接続ガスをアルゴンに変更することによって、金属や半導体試料の表面に付着した炭素等の不純物を物理的に除去できるようになります。
装置名 装置の特徴
Meiwafosis, SEDE-GE グロー放電、18 W、試料ステージ径:φ80 mm、均一処理ができる試料径:φ44 mm

JEOL, JFC-1100

7)金イオンコータの概要
 低導電性試料のSEM観察を行う際などに使用する装置です。
 JFC-1100は、試料表面に金粒子を蒸着させることによって導電性を持たせ、より安定でより高分解能な観察が可能となります。
装置名 装置の特徴
JEOL, JFC-1100 スパッタリング方式

Meiwafosis, Neoc-ST

8)オスミウムコータの概要
 オスミウムコータは低導電性試料の表面にナノ(1×10-9)メートルサイズのオスミウム薄膜を均一に蒸着させることによって導電性を持たせ、高倍率における試料表面の構造観察などを支援します。特にFE-SEM、EDS、XPS等の表面分析に対して有効です。
 Neoc-STはFE-SEMと同じ千葉大学ベンチャービジネスラボラトリー3階のX線微細構造解析室に設置されている共同利用装置です
装置名 装置の特徴
Meiwafosis, Neoc-ST 四酸化オスミウム昇華ガスを用いたプラズマCVD成膜法、真空チャンバー寸法 150 × 70 mm

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ライセンス

現在、それぞれの装置に対して以下のようなライセンスを発行しています。

1)TEM測定ライセンス
利用者が、H-7650を用いてTEM観察を行うためのライセンスです。なお事前に、年1〜2回程度開催する既定の使用取扱説明会に参加して認定証を受領する必要があります。
2)FE-TEM測定ライセンス
利用者が、JEM-2100Fを用いてFE-TEM観測を行うためのライセンスです。基本ライセンス、上級ライセンスである「HR」ライセンス・「ED」ライセンス・「EDS」ライセンス、限定ライセンスである「STEM」ライセンス・「Cryo」ライセンスの計6種類があります。
3)SEM測定ライセンス
利用者が、JSM-6510Aを用いてSEM観察や分析を行うためのライセンスです。基本ライセンスである「SEM」ライセンスと上級ライセンスである「EDS」ライセンス・「Cryo」ライセンスの計3種類があります。
4)FE-SEM測定ライセンス
利用者が、JSM-6335Fを用いてFE-SEM観察を行うためのライセンスです。
5)精密イオンポリシング装置(PIPS)ライセンス【学内専用】
利用者が、Model 691を用いて試料調製を行うためのライセンスです。
6)ソフトプラズマエッチング装置ライセンス
利用者が、SEDE-GEを用いて試料調製を行うためのライセンスです。
7)金イオンコータライセンス
利用者が、JFC-1100を用いて金イオンコートを行うためのライセンスです。
8)オスミウムコータライセンス
利用者が、Neoc-STを用いてオスミウムコートを行うためのライセンスです。

※ライセンス取得に関する詳細は、共用機器センターにご相談下さい。

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